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资料名称

Effect of Deprotection Extent on Swelling and Diss

资料类型 PDF文档
资料大小 203.59 K
类 别 标准
资料来源 公司内部
简 介 The response of unentangled polymer thin films to aqueous hydroxide solutions is measured as a function of increasing weakly acidic methacrylic acid comonomer content produced by an in situ reaction-diffusion process. Quartz crystal microbalance with energy dissipation and Fourier transform infrared spectroscopy measurements are used to identify four regimes: (I) nonswelling, (II) quasiequilibrium swelling, (III) swelling coupled with partial film dissolution, and (IV) film dissolution. These regimes result from chemical heterogeneity in local composition of the polymer film. The acid-catalyzed deprotection of a hydrophobic group to the methacrylic acid tends to increase the hydrophilic domain size within the film. This nanoscale structure swells in aqueous base by ionization of the methacrylic acid groups. The swollen film stability, however, is determined by the hydrophobic matrix that can act as physical cross-links to prevent dissolution of the polyelectrolyte chains. These observations challenge current models of photoresist film dissolution that do not include the effects of swelling and partial film dissolution on image quality.
上传人 瑞典百欧林科技有限公司上海代表处
上传时间 2012-12-04
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